更新時間:2024-07-05
設備型號:
氯含氫分析儀,它采用熱傳導原理,提供了對兩相氣體的高敏感和精確分析H2、He、Ar、CH4、CO2等。廣泛應用在石化、電力、冶金、航天等Z通常是電廠或熱站中氫冷發(fā)電機應用。三范圍是用于氫冷發(fā)電機組的發(fā)電機的氫氣純度。
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氯含氫分析儀的應用
熱處理
•銅熔化爐和鍍鋅
•鋼鐵工業(yè)
•化工和石化行業(yè)
•合成氣
•肥料
•堿和氯廠
•核電站和電力工業(yè)
•氫冷發(fā)電機
•天然氣生產行業(yè)(純度監(jiān)測)
•氫氣發(fā)生器
半導體裝置的H2氣體濃度測量
氫氣發(fā)生裝置的H2氣體濃度測量
燒結爐的H2氣體濃度測量
煤氣發(fā)生設備的Ar、He、CH4濃度測量
超導裝置的He氣體濃度測量
空氣分離設備的Ar氣體濃度測量
氯含氫分析儀技術參數:
量程:0-1%、0-2%、0-5%、0-10%、0-15%、0-20%、0-30%、0-40%、0-75% ;0-100%、80-100%、95-100%、98-100%H2\He\CH4\HC等
標準規(guī)格 | 測量方式 | 熱傳導式 |
測量組分 | He、Ar、H2、CH4、CO2 | |
測量范圍 | H2:0~3……100%,100~90,100~80% He:0~5……100%,100~90,100~80% Ar:0~10……100%,100~90,100~80% CH4:0~20……100%,100~80% | |
輸出信號 | DC4~20mA、DC0~1V、DC0~10mV 非隔離輸出(其中某一點,根據型號) | |
容許負載電阻 | 不超過550Ω(DC4~20mA輸出時) | |
輸出電阻 | 100kΩ(DC0~1V、DC0~10mV時) | |
顯示器 | 帶背光LCD | |
測量值顯示 | zui多4位或小數點后帶2位 | |
輸出信號保持 | 手動校正、自動校正時保持校正前的輸出值 | |
電源電壓、功耗 | AC100~240V 50/60Hz、約50VA | |
環(huán)境溫度、濕度 | -5~45℃、不超過90%RH(應無結露) | |
安裝方法 | 面板嵌入型 | |
外形尺寸(H×W×D) | 240×192×213mm | |
重量 | 約5kg | |
外殼類型 | 鋼板制外殼、室內型 | |
氣體出入口、換氣口 | Rc1/4或NPT1/4(根據) | |
換氣氣體的流量 | 約1L/min(根據需要進行) | |
適用標準 | CE標記(預定取得認證) | |
性能 | 重復性 | ±1%FS |
漂移 | 零點:±2% FS/周 以內(H2分析儀) 滿量程點:±2% FS/周 以內(H2分析儀) | |
響應速度(90%響應) | 標準:60秒以內(0.4L/min流量) 高速:10秒以內(1L/min流量) 但僅限H2分析儀(參比氣為N2) | |
標準測量氣體條件 | 溫度 | 0~50℃ |
氣體流量 | 0.4±0.05 L/min 且應穩(wěn)定 | |
塵埃 | 不超過1µm的微粒, 不超過100µg/Nm3 | |
壓力 | 不超過10kPa | |
氣霧、腐蝕性氣體 | 無 | |
水分 | 不超過2℃飽和 |